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半導(dǎo)體廠房的硅烷氣體泄漏檢測(cè)

更新時(shí)間:2024-04-08點(diǎn)擊次數(shù):529
硅烷即硅與氫的化合物,是一系列化合物的總稱,包括甲硅烷( SiH4) 、乙硅烷( Si2H6) 和硅氫化合物。目前應(yīng)用多的是甲硅烷,一般把甲硅烷簡(jiǎn)稱做硅烷。硅烷作為一種提供硅組分的氣體源,可用于制造高純度多晶硅、單晶硅、微晶硅、非晶硅、氮化硅、氧化硅、異質(zhì)硅、各種金屬硅化物。因其高純度和能實(shí)現(xiàn)精細(xì)控制,已成為許多其他硅源無(wú)法取代的重要特種氣體。硅烷廣泛應(yīng)用于微電子、光電子工業(yè),用于制造太陽(yáng)電池、平板顯示器、玻璃和鋼鐵鍍層。硅烷的高科技應(yīng)用還在不斷出現(xiàn), 包括用于制造陶瓷、復(fù)合材料、功能材料、生物材料、高能材料等等,成為許多新技術(shù)、新材料、新器件的基礎(chǔ)。硅烷又以它的自燃、爆炸性而著稱。硅烷有非常寬的自發(fā)著火范圍和的燃燒能量,決定了它是一種高危險(xiǎn)性的氣體。
硅烷氣體泄漏檢測(cè)主要特點(diǎn):
速核系統(tǒng):采用高精度32位高速微處理器,Epsion數(shù)據(jù)處理系統(tǒng),速測(cè)危害氣體,高效預(yù)警毒氣泄漏。
多級(jí)標(biāo)定:業(yè)內(nèi)智能化多級(jí)校準(zhǔn)技術(shù),多重濾波技術(shù),更精準(zhǔn)更快速地反饋現(xiàn)場(chǎng)濃度值。
自動(dòng)標(biāo)定:通入實(shí)際標(biāo)氣,無(wú)需標(biāo)定員操作,智能識(shí)別標(biāo)定。
穩(wěn)定性:經(jīng)過(guò)嚴(yán)格的進(jìn)料篩選工序,及行業(yè)經(jīng)驗(yàn)十幾年的研發(fā)人員匠心打造,抗EMC、EMI干擾,大幅度提高偵察兵的可靠性。
多結(jié)構(gòu)的通訊方式:支持4-20mA與RS485單路或多路同時(shí)通訊,有線與內(nèi)置無(wú)線433M/GPRS等無(wú)線多路通訊(選配)。
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